Toppan Photomasks 核準在中國投入全新 65 納米至 14 納米的先進技術(shù)及產(chǎn)能計劃
全球業(yè)界首選光罩合作伙伴Toppan Photomasks, Inc.（TPI）10日宣布核準對近期擴建的中國上海廠的下一階段投資計劃；該廠由TPI獨資子公司ToppanPhotomasks Company Limited, Shanghai（TPCS）營運。TPI將對此工廠再投資8,000萬美元以展現(xiàn)其對中國快速成長的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)及客戶的長期承諾。TPI先前已投資2,000萬美元擴建上海二廠（TPCSShanghai II）；該廠現(xiàn)已量產(chǎn)并且為中國唯一提供全方位技術(shù)及產(chǎn)品的商業(yè)光罩廠。
TPI CEO Mike Hadsell表示：“相較于其他供應(yīng)商，上海廠除了提供中國客戶縮短兩天周期的優(yōu)勢外，并有利于加速客戶攻占市場的時效。今天的宣布除了以上優(yōu)勢，并擴大光罩生產(chǎn)能力至28納米。上海廠的先進技術(shù)也將更進一步延伸至14納米，以符合中國半導(dǎo)體市場快速演進的需求。此外，上海廠區(qū)也有足夠的擴建空間以支持客戶在未來10年甚至更長遠的產(chǎn)能需求！
甫擴展的上海二廠坐落于目前公司營運地（上海漕河涇開發(fā)區(qū)），除了擁有先進的一級無塵室及設(shè)備外，并有利于下一階段的擴展計劃。此階段的生產(chǎn)能力及技術(shù)將聚焦于65至14納米的邏輯與先進內(nèi)存（DRAM及NAND）。待今日宣布的計劃完成后，仍將有40%的無塵室空間以做為日后擴展所需。
編輯：admin 最后修改時間：2018-01-05
