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將多種對電池開發(fā)至關(guān)重要的表面分析技術(shù)整合于新的自動化傳輸平臺，通過對薄膜與界面的一系列分析，能有效幫助電池壽命的研究。
ULVAC-PHI 股份有限公司（神奈川縣茅崎市、社長 原 泰博）推出一款追求高自動化及精簡操作的「PHI GENESIS」全新多功能掃描式 X 射線光電子能譜分析儀（XPS：X-ray Photoelectron Spectroscopy 又名 ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis）。
掃描式 X 射線光電子能譜分析儀「PHI GENESIS」外觀
【背景】
帶動全球產(chǎn)業(yè)鏈的全固態(tài)電池、先進半導體和光觸媒等先端應(yīng)用領(lǐng)域，都大量使用不同的複合材料，在材料的研究開發(fā)中，不僅對材料的性能以及優(yōu)化材料界面粘附性質(zhì)有要求，同時也需要與時間賽跑。為了滿足日新月異且復雜的表面與界面分析需求，從而加快材料的研究和開發(fā)，我們推出了全新的 XPS 表面分析儀，不僅具有極強的基本性能、高度的自動化，并能夠滿足客戶的各種個性化要求。這就是 ULVAC-PHI 推出的全新掃描式 X 射線光電子能譜分析儀— PHI GENESIS。
【概述】
「PHI GENESIS」XPS 將大幅進化的基本性能置于高度空間利用的外殼中，它保有50 年傳統(tǒng)的 PHI XPS 系列的“核心基因”并提高了自動化，成為了大幅縮短分析時間，且具有可擴展性的最新科研儀器。
「PHI GENESIS」XPS 通過自動樣品交換以及多點分析功能，結(jié)合提高計數(shù)率的高靈敏度分析儀，提供快速、高靈敏度和微區(qū)的 XPS 分析。迄今為止，ULVAC-PHI 和Physical Electronics USA 已將許多全球首創(chuàng)的 XPS 分析技術(shù)投入實際應(yīng)用中（掃描微聚焦型 X 射線、全自動化 XPS 分析、自動中和絕緣體分析、用團簇離子蝕刻槍對有機材料進行深度分析，以及通過硬 X 射線對無機材料進行無破壞性的深度分析）。在整合這些技術(shù)到儀器中，便可以為金屬、半導體、陶瓷和有機物質(zhì)等所有材料提供尖端的 XPS 分析技術(shù)。
PHI GENESIS 的另一項創(chuàng)新是對易用性的追求，新軟件旨在提供各個層次的用戶都可快速上手使用，無論是表面分析的初學者還是尖端科學家，是在制造現(xiàn)場還是在尖端開發(fā)的研究機關(guān)，都能夠符合使用者的習慣和需求。ULVAC-PHI亦提供了一個實驗室級的硬 X 射線選項，使得在實驗室環(huán)境中同樣可以使用如同大型同步輻射光源才能進行的高階分析。
PHI GENESIS 不僅支持最先進的復合材料分析，同時也能對復合器件的產(chǎn)品進行分析，目標成為加速全球研究與開發(fā)必不可少的分析儀器。
【上市時間】
2023 年 4 月
【咨詢電話】
ULVAC-PHI 科技有限公司 制品戰(zhàn)略部 TEL: +81-467-85-6522（代表）
PHI CHINA 高德英特(北京)科技有限公司 TEL: 010 6251 9668
【相關(guān)網(wǎng)頁】
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