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根據(jù)韓國媒體Korea Times報導，晶圓代工龍頭臺積電在獨家承攬?zhí)O果iPhone 7的A10處理器代工訂單之后，可以說是對三星電子(SAMSUNG)一次的重大勝利。但是，為了能在未來板回劣勢，三星電子本月由一位執(zhí)行副總領帶隊，親赴全球半導體微影技術設備商荷蘭ASML總公司，敲定將至少耗資數(shù)百萬美元，采購ASML的最新EUV（極紫外光）微影設備，用于三星7納米的制程上，并且先在2017年就搶先投入7納米先進制程的試產上。
報導中指出，三星電子1位參與這次采購的高層主管表示，三星同意采購ASML的最新EUV設備NXE 3400 EU，將會運用在7納米先進制程上。而這些EUV設備將安裝在三星的邏輯芯片生產線中，預期最快在2017上半年完成，也是三星頭一次把EUV設備投入芯片產線。
據(jù)了解，EUV微影技術是運用波長13.5納米的紫外光，照射出更細致的紋理，可避免成本高昂的多重曝光程序。EUV微影技術花了很長時間才商業(yè)化，原因在于操作波長這么小的光線非常困難。因此，臺積電一直無法確定是否要采用EUV，直到5納米制程才最后確定。
三星表示，盡管延誤了時程，但三星仍將會是第一家進入10納米制程的制造商（即將為高通Qualcomm生產新的Snapdragon處理器芯片）。不過，臺積電在稍后以會以更大的生產規(guī)模趕上來。而由于10納米在技術上是個轉換階段，而且必須投下的龐大成本。在未來的產品要運用更新技術來生產的情況下，三星打算藉10納米制程的練兵，未來企圖在7納米制程上拿回蘋果的訂單。
