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川土微電子隔離電源的輻射抑制設(shè)計參考(四)

關(guān)鍵字:川土微電子 隔離芯片 作者: 來源: 發(fā)布時間:2022-06-09  瀏覽:26

對比實驗

1. 初級VCC對GNDA以及次級VISO對GNDB的PCB拼接電容各為約500pF(參考圖 2 和圖 10)。 分立器件只有 10μF 儲能電容, 無去耦電容, 輻射測試結(jié)果如下圖 16;

2. 初級VCC對GNDA以及次級VISO對GNDB的PCB拼接電容各為約400pF+400pF(參考圖 2 和圖 10)。分立器件只有 10μF 儲能電容, 無去耦電容, 輻射測試結(jié)果如下圖 17;

3. 初級 VCC對 GNDA 以及次級 VISO 對 GNDB 的 PCB 拼接電容各為約 400pF+400pF。 分立器件除了 10μF儲能電容外, 加入10nF+470pF去耦電容, 參考圖18, 輻射測試結(jié)果如下圖 19;

4. 初級 VCC對 GNDA 以及次級 VISO 對 GNDB 的 PCB 拼接電容各為約 400pF+400pF。 分立器件除了 10μF儲能電容外, 加入型號為FBG1005-601Y的磁珠,參考圖 20, 輻射測試結(jié)果如下圖 21。

實驗表明:

1. 初級地 GNDA 和次級地 GNDB 的 PCB 拼接電容對30MHz-1GH 整體頻段內(nèi)的輻射有大幅度的改善, 約降低 20dBμ V/m;

2. 初級 VCC對 GNDA 以及次級 VISO 對 GNDB 的 PCB 拼接電容 30MHz-1GH 整體頻段的輻射有大幅度的改善, 約降低 10dBμ V/m;

3. 初級 VCC對 GNDA 以及次級 VISO 對 GNDB 的分立器件去耦電容 10nF 和 470pF 對 150MHz 處的輻射約降低 20 dBμ V/m,對其他頻段也有不同幅度的改善;

4. 型號為 FBG1005-601Y 的磁珠對 70MHz 處的輻射約降低 3dBμ V/m。

示例

綜上所述,下面是CA-IS3092W的4層PCB的布線實例。PCB長和寬都為99mm,厚度為1.0mm。第一層信號層和第二層信號層之間的絕緣層厚度為0.2mm,第二層和第三層之間的絕緣層厚度為0.465mm,第三層和第四層信號層之間的厚度為0.2mm。初級地GNDA和次級地GNDB的拼接電容約為180pF;VCC對GNDA以及VISO對GNDB的拼接電容約為400pF+400pF;做了相應(yīng)的邊緣防護。PCB的各個層布線如下所示。FBL1和FBL2選取型號為FBG1005-601Y的磁珠,C2和C5分別選取10μF,C3、C6和C4、C7分別選取10nF和470pF,測試結(jié)果如圖21所示,滿足EN55032的classA類輻射標準,比其限值低了10.4dBμV/m。

總結(jié)

以上提出了抑制輻射干擾的方法,總結(jié)如下:

1.初級地 GNDA 和次級地 GNDB 之間的 PCB 拼接電容對抑制輻射的作用比較大, 其拼接電容的好壞將直接決定整體輻射水平的高低;

2. 初級 VCC 對 GNDA 以及次級 VISO 對 GNDB 的 PCB 拼接電容對抑制輻射的作用也很大, 分立器件的供電電容和耦合電容的擺放位置、選型及 PCB 布線對輻射的影響相對比較關(guān)鍵;

3.邊緣防護的設(shè)計以及磁珠的合理選用可進一步降低輻射干擾。

編輯:admin  最后修改時間:2023-05-21

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